如何得到所需要的镀膜成分
对研究开发薄膜的技术人员来讲，源（只蒸发源或靶）材料的成分同生成膜成分的关系是一个最重要的问题。一般来说，要求沉积膜的性质长期保持不变，为此，希望能够做出与源的材料成分相同的镀膜成分，或者在膜析出时与特定气体进行反应（反应溅射或反应蒸镀），从而作出稳定性性质的膜。
笼统的说，真空蒸发镀膜和离子镀膜中，坩埚中的镀料（如镀膜铝线、镀膜锡丝等）容易分馏而引起成分的变化，从而沉积膜层的成分也容易发生变化；而在溅射镀膜中，靶材按其本身的成分被溅射出来落到基片上，从而沉积膜层的成分不容易发生变化。
关于这一点，可以将坩埚中的镀料以及靶材想象为食盐水。真空蒸镀和离子镀时，只是水被蒸发，从而坩埚中食盐水的浓度越来越高；而溅射的情况下，包括食盐和水的溶液一起被溅射出来，而且保持原来食盐水的浓度飞落到基片上。